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分析事例

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分析事例一覧

イメージ 掲載日 タイトル 測定法・加工法 製品分野 分析目的
AESによるボンディング界面の元素分析 2017/09/14 AESによるボンディング界面の元素分析(C0486) [AES]オージェ電子分光法
LSI・メモリ
電子部品
組成評価・同定
故障解析・不良解析
Si系IGBTチップ断面の低温顕微PL分析 2017/09/14 Si系IGBTチップ断面の低温顕微PL分析(C0485) [PL]フォトルミネッセンス法
LSI・メモリ
パワーデバイス
電子部品
構造評価
故障解析・不良解析
製品調査
代表的な材料・目的別のTDS解析例 2017/03/30 代表的な材料・目的別のTDS解析例(B0232) [TDS]昇温脱離ガス分析法
LSI・メモリ
パワーデバイス
電子部品
ディスプレイ
製造装置・部品
酸化物半導体
微量濃度評価
その他
石英・ガラス中の「水」の評価 2017/02/16 石英・ガラス中の「水」の評価(C0460) [SIMS]二次イオン質量分析法
その他
電子部品
ディスプレイ
微量濃度評価
劣化調査・信頼性評価
TOF-SIMSによる微小ビアのイメージ分析 2017/01/12 TOF-SIMSによる微小ビアのイメージ分析(C0454) [TOF-SIMS]飛行時間型二次イオン質量分析法
LSI・メモリ
電子部品
組成分布評価
故障解析・不良解析
AESによるCu表面変色部の評価 2016/12/01 AESによるCu表面変色部の評価(C0451) [AES]オージェ電子分光法
[SEM]走査電子顕微鏡法
[SEM-EDX]エネルギー分散型X線分光法(SEM)
LSI・メモリ
電子部品
製造装置・部品
組成評価・同定
組成分布評価
Si-IGBTチップのキャリア濃度分布評価 2016/12/01 Si-IGBTチップのキャリア濃度分布評価(C0443) [SIMS]二次イオン質量分析法
[SRA]広がり抵抗測定法
パワーデバイス
電子部品
微量濃度評価
製品調査
EGA-MS法による発生ガス分析 2016/12/01 EGA-MS法による発生ガス分析(B0229) [GC/MS]ガスクロマトグラフィー質量分析法
電子部品
製造装置・部品
日用品
熱物性評価
劣化調査・信頼性評価
製品調査
TOF-SIMSによる微小領域の定性・イメージ分析 2016/11/24 TOF-SIMSによる微小領域の定性・イメージ分析(C0449) [TOF-SIMS]飛行時間型二次イオン質量分析法
LSI・メモリ
電子部品
組成評価・同定
組成分布評価
はんだ剥離部断面のTOF-SIMS分析 2016/11/17 はんだ剥離部断面のTOF-SIMS分析(C0450) [TOF-SIMS]飛行時間型二次イオン質量分析法
LSI・メモリ
電子部品
故障解析・不良解析
ハートカットEGA法による発生ガス分析 2016/10/13 ハートカットEGA法による発生ガス分析(B0228) [GC/MS]ガスクロマトグラフィー質量分析法
電子部品
製造装置・部品
日用品
熱物性評価
劣化調査・信頼性評価
製品調査
XAFSによるシリコン酸化膜評価 2016/10/06 XAFSによるシリコン酸化膜評価(C0439) [XAFS]X線吸収微細構造
パワーデバイス
電子部品
太陽電池
二次電池
ディスプレイ
酸化物半導体
化学結合状態評価
構造評価
室内雰囲気中の腐食成分分析 2016/08/18 室内雰囲気中の腐食成分分析(C0436) [IC]イオンクロマトグラフ法
LSI・メモリ
電子部品
製造装置・部品
環境
微量濃度評価
その他
イオン注入及びアニール処理を行ったSiの低温フォトルミネッセンススペクトル 2016/07/28 イオン注入及びアニール処理を行ったSiの低温フォトルミネッセンススペクトル(C0434) [PL]フォトルミネッセンス法
LSI・メモリ
パワーデバイス
電子部品
太陽電池
構造評価
故障解析・不良解析
ポリイミド樹脂の構造解析 2016/06/23 ポリイミド樹脂の構造解析(C0430) [GC/MS]ガスクロマトグラフィー質量分析法
電子部品
組成評価・同定
製品調査
表面酸化膜のある異物の状態評価 2016/04/14 表面酸化膜のある異物の状態評価(C0420) [TOF-SIMS]飛行時間型二次イオン質量分析法
LSI・メモリ
光デバイス
電子部品
製造装置・部品
組成評価・同定
化学結合状態評価
組成分布評価
粉体異物の定性分析 2016/02/18 粉体異物の定性分析(C0408) [FT-IR]フーリエ変換赤外分光法
[XRD]X線回折法
[XRF]蛍光X線分析法
電子部品
製造装置・部品
組成評価・同定
化学結合状態評価
故障解析・不良解析
Siウエハの保管状態による表面汚染評価 2015/11/26 Siウエハの保管状態による表面汚染評価(C0120) [TOF-SIMS]飛行時間型二次イオン質量分析法
LSI・メモリ
電子部品
組成評価・同定
エタノールをつけた綿棒の残渣分析 2015/11/26 エタノールをつけた綿棒の残渣分析(C0201) [TOF-SIMS]飛行時間型二次イオン質量分析法
LSI・メモリ
電子部品
組成分布評価
故障解析・不良解析
揮発性有機化合物(VOC)P&Tによる微量成分の検出 2015/10/01 揮発性有機化合物(VOC)P&Tによる微量成分の検出(B0217) [GC/MS]ガスクロマトグラフィー質量分析法
LSI・メモリ
電子部品
製造装置・部品
化粧品
日用品
食品
環境
微量濃度評価
劣化調査・信頼性評価
製品調査
安全性試験
揮発性有機化合物(VOC)前処理方法の選択 2015/10/01 揮発性有機化合物(VOC)前処理方法の選択(B0216) [GC/MS]ガスクロマトグラフィー質量分析法
LSI・メモリ
電子部品
製造装置・部品
化粧品
日用品
食品
環境
微量濃度評価
劣化調査・信頼性評価
製品調査
安全性試験
有機膜材料の配向角評価 2015/08/20 有機膜材料の配向角評価(B0215) [XAFS]X線吸収微細構造
電子部品
太陽電池
照明
ディスプレイ
日用品
化学結合状態評価
構造評価
XPS・AESによる深さ方向分析の比較 2015/07/02 XPS・AESによる深さ方向分析の比較(B0211) [XPS]X線光電子分光法
[AES]オージェ電子分光法
LSI・メモリ
電子部品
組成評価・同定
Si表面のH終端の解析 2015/05/28 Si表面のH終端の解析(C0055) [TOF-SIMS]飛行時間型二次イオン質量分析法
LSI・メモリ
電子部品
組成評価・同定
化学結合状態評価
薄膜表面処理後の仕事関数評価 2015/05/28 薄膜表面処理後の仕事関数評価(C0382) [UPS]紫外光電子分光法
電子部品
太陽電池
ディスプレイ
その他
XPSによるDLCの評価 2015/05/14 XPSによるDLCの評価(C0380) [XPS]X線光電子分光法
電子部品
製造装置・部品
日用品
組成評価・同定
化学結合状態評価
DLC膜のsp2/(sp2+sp3)比高精度定量化 2015/04/23 DLC膜のsp2/(sp2+sp3)比高精度定量化(C0379) [XAFS]X線吸収微細構造
電子部品
製造装置・部品
日用品
化学結合状態評価
構造評価
薄いカーボン膜の深さ方向分析 2015/04/09 薄いカーボン膜の深さ方向分析(C0374) [TOF-SIMS]飛行時間型二次イオン質量分析法
電子部品
製造装置・部品
組成評価・同定
組成分布評価
最表面シラノール基の評価 2015/04/02 最表面シラノール基の評価(C0377) [TOF-SIMS]飛行時間型二次イオン質量分析法
LSI・メモリ
電子部品
組成評価・同定
マイクロサンプリングツールを用いた異物分析 2015/03/26 マイクロサンプリングツールを用いた異物分析(C0363) [FT-IR]フーリエ変換赤外分光法
[Raman]ラマン分光法
その他
電子部品
照明
ディスプレイ
製造装置・部品
日用品
組成評価・同定
化学結合状態評価
故障解析・不良解析

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