分析のお問い合わせ・お申込み
相談員が伺います。

03-3749-2525

tel:03-3749-2525

分析事例

フリーワード

分析事例一覧

イメージ 掲載日 タイトル 測定法・加工法 製品分野 分析目的
代表的な材料・目的別のTDS解析例 2017/03/30 代表的な材料・目的別のTDS解析例(B0232) [TDS]昇温脱離ガス分析法
LSI・メモリ
パワーデバイス
電子部品
ディスプレイ
製造装置・部品
酸化物半導体
微量濃度評価
その他
酸化・窒化薄膜のバンドギャップ評価 2017/03/16 酸化・窒化薄膜のバンドギャップ評価(C0462) [XPS]X線光電子分光法
[XAFS]X線吸収微細構造
パワーデバイス
太陽電池
照明
酸化物半導体
その他
ウエハアナライザーを用いた有機汚染評価 2016/12/15 ウエハアナライザーを用いた有機汚染評価(B0230) [GC/MS]ガスクロマトグラフィー質量分析法
製造装置・部品
酸化物半導体
組成評価・同定
微量濃度評価
故障解析・不良解析
XAFSによるシリコン酸化膜評価 2016/10/06 XAFSによるシリコン酸化膜評価(C0439) [XAFS]X線吸収微細構造
パワーデバイス
電子部品
太陽電池
二次電池
ディスプレイ
酸化物半導体
化学結合状態評価
構造評価
酸化ガリウムGa2O3膜表面近傍の金属元素濃度評価 2016/09/29 酸化ガリウムGa2O3膜表面近傍の金属元素濃度評価(C0440) [TOF-SIMS]飛行時間型二次イオン質量分析法
パワーデバイス
酸化物半導体
微量濃度評価
2次元検出器を用いたX線回折測定 2015/08/13 2次元検出器を用いたX線回折測定(B0212) [XRD]X線回折法
LSI・メモリ
酸化物半導体
構造評価
エッチングによる有機付着物除去 2015/05/28 エッチングによる有機付着物除去(C0383) [XPS]X線光電子分光法
LSI・メモリ
パワーデバイス
光デバイス
製造装置・部品
酸化物半導体
組成評価・同定
化学結合状態評価
XPSによるGaN膜の組成・結合状態評価 2015/05/21 XPSによるGaN膜の組成・結合状態評価(C0381) [XPS]X線光電子分光法
パワーデバイス
光デバイス
照明
ディスプレイ
酸化物半導体
組成評価・同定
化学結合状態評価
IGZO膜へのTi拡散評価 2013/12/26 IGZO膜へのTi拡散評価(C0329) [SIMS]二次イオン質量分析法
[(S)TEM](走査)透過電子顕微鏡法
[SSDP用加工]基板側からの測定用加工
酸化物半導体
微量濃度評価
IGZO薄膜のXAFSによる局所構造解析 2013/12/26 IGZO薄膜のXAFSによる局所構造解析(C0324) [XAFS]X線吸収微細構造
酸化物半導体
化学結合状態評価
構造評価
IGZO膜中H濃度評価 2013/12/26 IGZO膜中H濃度評価(C0328) [SIMS]二次イオン質量分析法
[(S)TEM](走査)透過電子顕微鏡法
酸化物半導体
微量濃度評価
IGZO膜の局所結晶構造解析 2013/12/26 IGZO膜の局所結晶構造解析(C0330) [(S)TEM](走査)透過電子顕微鏡法
[ED]電子回折法
酸化物半導体
形状評価
構造評価
IGZO膜の化学状態評価 2013/12/26 IGZO膜の化学状態評価(C0331) [XPS]X線光電子分光法
[UPS]紫外光電子分光法
酸化物半導体
化学結合状態評価
IGZO(粉末・バルク・薄膜)の組成・不純物分析 2013/08/01 IGZO(粉末・バルク・薄膜)の組成・不純物分析(C0314) [ICP-MS]誘導結合プラズマ質量分析法
酸化物半導体
組成評価・同定
微量濃度評価
X線によるZn系バッファ層の複合評価 2013/07/04 X線によるZn系バッファ層の複合評価(C0282) [XPS]X線光電子分光法
[XRD]X線回折法
[XRR]X線反射率法
その他
太陽電池
酸化物半導体
組成評価・同定
化学結合状態評価
膜厚評価
構造評価
金属膜の高温XRD評価 2013/06/13 金属膜の高温XRD評価(C0270) [XRD]X線回折法
LSI・メモリ
太陽電池
酸化物半導体
構造評価
IGZO 薄膜の結晶性・膜密度評価 2012/12/27 IGZO 薄膜の結晶性・膜密度評価(C0283) [XRD]X線回折法
[XRR]X線反射率法
LSI・メモリ
ディスプレイ
酸化物半導体
膜厚評価
構造評価
熱物性評価
Si自然酸化膜の膜厚評価 2012/11/22 Si自然酸化膜の膜厚評価(C0279) [XPS]X線光電子分光法
LSI・メモリ
パワーデバイス
光デバイス
製造装置・部品
酸化物半導体
組成評価・同定
化学結合状態評価
組成分布評価
膜厚評価
高温XRDによる熱分解生成物の同定 2012/07/05 高温XRDによる熱分解生成物の同定(C0239) [XRD]X線回折法
雰囲気制御下での処理
LSI・メモリ
電子部品
酸化物半導体
医薬品
化粧品
構造評価
酸化物ReRAM動作領域の元素分布評価 2010/11/04 酸化物ReRAM動作領域の元素分布評価(C0191) [SIMS]二次イオン質量分析法
LSI・メモリ
酸化物半導体
微量濃度評価
組成分布評価
極薄SiON膜の組成・膜厚評価 2010/01/01 極薄SiON膜の組成・膜厚評価(C0002) [XPS]X線光電子分光法
LSI・メモリ
パワーデバイス
光デバイス
電子部品
酸化物半導体
組成評価・同定
化学結合状態評価
組成分布評価
膜厚評価
Siウエハの有機物汚染評価 2010/01/01 Siウエハの有機物汚染評価(C0007) [TOF-SIMS]飛行時間型二次イオン質量分析法
LSI・メモリ
パワーデバイス
光デバイス
電子部品
酸化物半導体
組成評価・同定
化学結合状態評価
Cu表面の有機物汚染評価 2010/01/01 Cu表面の有機物汚染評価(C0008) [TOF-SIMS]飛行時間型二次イオン質量分析法
LSI・メモリ
パワーデバイス
光デバイス
電子部品
酸化物半導体
組成評価・同定
化学結合状態評価
多元系金属微粒子の結晶構造観察 2010/01/01 多元系金属微粒子の結晶構造観察(C0116) [(S)TEM](走査)透過電子顕微鏡法
酸化物半導体
構造評価
  • 1

分析のご相談・お申し込み

知識豊富な営業担当が、最適な分析プランをご提案。
分析費用のお見積りもお気軽にお問い合わせください。
相談・お申し込みは、専用のフォームかお電話でどうぞ。

webからのお問い合わせはこちら

お問い合わせフォーム

お電話からのお問い合わせはこちら

ページトップへ

てむぞう&ますみん

てむぞう&ますみん