XPSによるSiC表面の状態・膜厚評価(C0394)

詳細な状態評価と併せ、膜厚計算が可能

MST技術資料No.C0394
掲載日2015/08/27
測定法・加工法[XPS]X線光電子分光法
製品分野パワーデバイス
分析目的組成評価・同定
化学結合状態評価
膜厚評価

概要

XPSでは試料表面の化学結合状態を評価することができ、波形解析により更に詳細な評価をすることが可能です。加えて、波形解析結果に仮定パラメータを用いることで、表面酸化膜等の膜厚を算出することも可能です。
本資料では、SiC表面の組成・状態評価を行うとともに、取得したピーク強度から酸化膜厚を算出した事例をご紹介します。

データ

SiC表面測定 検出深さ4~5nm / 上段:Si2p,C1sスペクトル、下段:各スペクトルの波形解析

※仮定したパラメーターを用いるため、酸化膜厚は参考値としてのお取扱いをお勧めしています。

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