ホーム > 分析事例

分析事例

測定法・加工法

製品分野

分析目的

フリーワード

上記の内容で検索 検索条件をクリア

分析事例一覧

イメージ 掲載日 タイトル 測定法・加工法 製品分野 分析目的
X線によるZn系バッファ層の複合評価 2013/07/04 X線によるZn系バッファ層の複合評価(C0282) ［XPS］X線光電子分光法
［XRD］X線回折法
［XRR］X線反射率法
その他
 太陽電池
酸化物半導体
 組成評価・同定
化学結合状態評価
膜厚評価
構造評価
SiC基板のゲート酸化膜評価 2013/01/24 SiC基板のゲート酸化膜評価(C0281) ［XPS］X線光電子分光法
［XRR］X線反射率法
 パワーデバイス
 化学結合状態評価
膜厚評価
IGZO　薄膜の結晶性・膜密度評価 2012/12/27 IGZO　薄膜の結晶性・膜密度評価(C0283) ［XRD］X線回折法
［XRR］X線反射率法
 LSI・メモリ
ディスプレイ
酸化物半導体
 膜厚評価
構造評価
熱物性評価
有機EL素子積層膜の膜密度・膜厚測定 2010/01/01 有機EL素子積層膜の膜密度・膜厚測定(C0067) ［XRR］X線反射率法
 照明
ディスプレイ
 形状評価
膜厚評価
  • 1

分析のご相談・お申し込み

知識豊富な営業担当が、最適な分析プランをご提案。
分析費用のお見積りもお気軽にお問い合わせください。
相談・お申し込みは、専用のフォームかお電話でどうぞ。

webからのお問い合わせはこちら

分析お問い合わせフォーム

お電話からのお問い合わせはこちら

ページトップへ

(C) 2015 Foundation for Promotion of Material Science and Technology of Japan.