ノーマリーオフ型GaN HEMT二次元電子ガス層評価(C0702)

製品調査の複合解析をワンストップでご提案可能です

概要

GaN系高電子移動度トランジスタ「GaN HEMT(High Electron Mobility Transistor)」は、AlGaN/GaNヘテロ構造によって二次元電子ガス層(2DEG)が得られ、電子移動度が高くなります。その特性を用いて急速充電器などで活用されています。
本資料では、ノーマリーオフ型のGaN HEMTデバイスを解体・評価しました。
分析手法を複合的に活用し、試料の総合的な知見を収集した事例をご紹介いたします。

データ

サンプル外観

分析結果

MST技術資料No.C0702
掲載日2023/11/30
測定法・加工法[SIMS]二次イオン質量分析法
[(S)TEM](走査)透過電子顕微鏡法
[SCM]走査型静電容量顕微鏡法・[SNDM]走査型非線形誘電率顕微鏡法
[SMM]走査型マイクロ波顕微鏡法
製品分野パワーデバイス
分析目的微量濃度評価
形状評価
構造評価
製品調査

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その他
LSI・メモリ
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製品調査

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