IGZO　薄膜の結晶性・膜密度評価(C0283)

酸化物半導体のXRD・XRR分析事例

概要

透明酸化物半導体であるIGZO薄膜はディスプレイ用TFT材料として研究開発が進んでいます。
IGZOは膜の組成・酸素欠損の有無・結晶性で大きく特性が変化する材料でもあり、膜質との相関を考慮することが重要です。加熱温度の異なる3種類のIGZO薄膜の結晶性・膜厚・膜密度をXRD・XRRにて測定し、比較を行った事例をご紹介します。高温では結晶化が進み、膜密度が高くなっている様子を非破壊で確認することができました。

データ

IGZO膜のXRD（X線回折法）評価事例

IGZO膜のXRR（X線反射率法）評価事例

MST技術資料No.	C0283
掲載日	2012/12/27
測定法・加工法	［XRD］X線回折法 ［XRR］X線反射率法
製品分野	LSI・メモリ ディスプレイ 酸化物半導体
分析目的	膜厚評価 構造評価 熱物性評価