[XRD]X線回折法の
分析事例はこちらからご覧ください。
特徴
XRDは、回折パターンから試料の結晶構造情報を得る手法です。
- 結晶性物質の同定が可能
- 結晶子サイズの評価 (数nm~100nm)が可能
- 結晶化度の評価が可能
- 配向性の評価が可能
- 歪み量・応力の評価が可能
- 非破壊で分析が可能
<保有装置の特徴>
- 室温1100℃までの加熱XRD分析が可能
- ビーム径100μmまでの微小部測定も可能
- N2、He、Ar、真空での雰囲気制御が可能
適用例
- ポリSi・金属膜・有機膜の結晶性・配向性評価
- ポリSi・金属膜の結晶子サイズ測定
- high-k膜・Niシリサイド(NiSi)・Tiシリサイド(TiSi)の結晶構造解析
- リチウムイオン二次電池電極材料の劣化評価
原理
XRDの評価対象である『結晶』とは、物質を構成する原子あるいは分子・イオンの集団が3次元的に繰り返し配列した状態のことです。X線を結晶に照射すると、結晶中の電子によりX線が散乱されます(散乱X線)。散乱X線は干渉し合い、ブラッグの法則を満たしたときに強い回折X線が生じます。
格子面間隔をd、 X線の入射角をθとした場合、第1面と第2面の行路差(-)は 2d sinθ となります。行路差が入射X線の波長λの整数倍の時に散乱X線が強め合い、ブラッグの法則が成り立ちます。
データ例
広角X線回折測定
極点測定
データ形式
- PDFファイル: スペクトル・解析データ
- TEXTファイル・Excelファイル: 数値データ・解析データ
仕様
搬入可能試料サイズ |
通常測定 ~8インチウエハまで 、厚み20mm以下
加熱測定 25mmΦまで 厚み3mm以下
※必要に応じて割断させて頂くことがあります。
|
測定領域 |
Out-of-plane測定 数mm×十数mm 程度
In-plane測定 20mm×20mm 程度
※微小領域測定については別途ご相談ください。
|
検出深さ |
数nm~数十μm(X線入射角により可変) |
角度分解能 |
0.003 deg ~ (測定方法・光学系による) |
試料必要量 |
粉体の場合 数 g 程度
薄膜の場合 厚み数nm~(元素・測定方法による)
|
必要情報
- 目的/測定内容
例:○○膜の結晶子サイズ・配向性・結晶相同定 等
- 試料情報
(1)試料数・予備試料の有無など
(2)材質・形状
(3)基板情報・層構造・膜組成・膜厚
(4)その他試料取扱い注意事項 等
- 納期
(1)ご希望の速報納期
(2)注意事項
- その他の留意点
注意点
- 測定試料の基板は、平坦であり、反りや大きな起伏などがないことが必要です。
- フレキシブル基板の場合には、測定の可否を検討させていただく場合があります。
- He雰囲気下では900℃までの加熱となります。
[XRD]X線回折法の分析事例はこちらからご覧ください。