有機EL素子積層膜の膜密度・膜厚測定(C0067)

X線反射率測定（XRR）で膜厚・密度の分析が非破壊で可能です

概要

有機ELディスプレイは自発光原理による高輝度、高精細カラー、薄型化等の利点を活かし、実用化が進みつつあります。有機ELデバイスは有機膜を積層させて作製しますが、有機膜積層状態での有機膜分析を行うことは困難でした。今回、XRR法を用いることによって、積層状態のまま、有機膜の膜厚測定および密度測定を行うことが可能となりました。
結晶質、非晶質を問わず、積層膜の膜厚および密度の分析が可能です。

データ

この分析事例のPDFファイルを開く有機EL素子積層膜の膜密度・膜厚測定

MST技術資料No.	C0067
掲載日	2010/01/01
測定法・加工法	［XRR］X線反射率法
製品分野	照明ディスプレイ
分析目的	形状評価膜厚評価

関連する分析事例

掲載日	タイトル	測定法・加工法	製品分野	分析目的
2013/07/04	X線によるZn系バッファ層の複合評価(C0282)	［XPS］X線光電子分光法［XRD］X線回折法［XRR］X線反射率法その他	太陽電池酸化物半導体	組成評価・同定化学結合状態評価膜厚評価構造評価
2013/01/24	SiC基板のゲート酸化膜評価(C0281)	［XPS］X線光電子分光法［XRR］X線反射率法	パワーデバイス	化学結合状態評価膜厚評価
2012/12/27	IGZO　薄膜の結晶性・膜密度評価(C0283)	［XRD］X線回折法［XRR］X線反射率法	LSI・メモリディスプレイ酸化物半導体	膜厚評価構造評価熱物性評価
2010/01/01	有機EL素子積層膜の膜密度・膜厚測定(C0067)	［XRR］X線反射率法	照明ディスプレイ	形状評価膜厚評価