分析事例

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分析事例一覧

イメージ 掲載日 タイトル 測定法・加工法 製品分野 分析目的
SiC中不純物の超高感度測定 2016/04/14 SiC中不純物の超高感度測定(C0421) [SIMS]二次イオン質量分析法
[SSDP用加工]基板側からの測定用加工
パワーデバイス
微量濃度評価
IGZO膜へのTi拡散評価 2013/12/26 IGZO膜へのTi拡散評価(C0329) [SIMS]二次イオン質量分析法
[(S)TEM](走査)透過電子顕微鏡法
[SSDP用加工]基板側からの測定用加工
酸化物半導体
微量濃度評価
GaN系LED構造中MgのSSDP-SIMS分析 2013/02/07 GaN系LED構造中MgのSSDP-SIMS分析(C0293) [SIMS]二次イオン質量分析法
[SSDP用加工]基板側からの測定用加工
その他
パワーデバイス
光デバイス
照明
微量濃度評価
製品調査
SiC基板におけるSSDP-SIMS分析 2013/01/24 SiC基板におけるSSDP-SIMS分析(C0284) [SIMS]二次イオン質量分析法
[SSDP用加工]基板側からの測定用加工
その他
パワーデバイス
微量濃度評価
テクスチャ付きGaN系LEDの元素分布評価 2012/12/06 テクスチャ付きGaN系LEDの元素分布評価(C0248) [SIMS]二次イオン質量分析法
[SEM]走査電子顕微鏡法
[SSDP用加工]基板側からの測定用加工
その他
パワーデバイス
照明
ディスプレイ
微量濃度評価
製品調査
Si基板へのAl,Gaの拡散評価 2012/11/29 Si基板へのAl,Gaの拡散評価(C0267) [SIMS]二次イオン質量分析法
[SSDP用加工]基板側からの測定用加工
パワーデバイス
光デバイス
照明
微量濃度評価
TFT配線交差部の深さ方向分析 2010/10/28 TFT配線交差部の深さ方向分析(C0025) [SIMS]二次イオン質量分析法
[SSDP用加工]基板側からの測定用加工
ディスプレイ
組成分布評価
製品調査
有機EL素子中不純物の深さ方向分析 2010/01/01 有機EL素子中不純物の深さ方向分析(C0030) [SIMS]二次イオン質量分析法
[SSDP用加工]基板側からの測定用加工
ディスプレイ
組成評価・同定
微量濃度評価
組成分布評価
ゲート電極から基板へのBの突き抜け量評価 2010/01/01 ゲート電極から基板へのBの突き抜け量評価(C0028) [SIMS]二次イオン質量分析法
[SSDP用加工]基板側からの測定用加工
LSI・メモリ
組成評価・同定
微量濃度評価
組成分布評価
CIGS太陽電池の各層の相互拡散評価 2010/01/01 CIGS太陽電池の各層の相互拡散評価(C0128) [SIMS]二次イオン質量分析法
[SSDP用加工]基板側からの測定用加工
太陽電池
組成評価・同定
微量濃度評価
組成分布評価
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