分析事例

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分析事例一覧

イメージ 掲載日 タイトル 測定法・加工法 製品分野 分析目的
無アルカリガラス中の金属不純物の定性と定量評価 2024/07/18 無アルカリガラス中の金属不純物の定性と定量評価(B0303) [SIMS]二次イオン質量分析法
[TOF-SIMS]飛行時間型二次イオン質量分析法
LSI・メモリ
電子部品
製造装置・部品
酸化物半導体
微量濃度評価
不純物評価・分布評価
SIMS分析データの再現性 2024/04/18 SIMS分析データの再現性(B0301) [SIMS]二次イオン質量分析法
LSI・メモリ
微量濃度評価
ノーマリーオフ型GaN HEMT二次元電子ガス層評価 2023/11/30 ノーマリーオフ型GaN HEMT二次元電子ガス層評価(C0702) [SIMS]二次イオン質量分析法
[(S)TEM](走査)透過電子顕微鏡法
[SCM]走査型静電容量顕微鏡法・[SNDM]走査型非線形誘電率顕微鏡法
[SMM]走査型マイクロ波顕微鏡法
パワーデバイス
微量濃度評価
形状評価
構造評価
製品調査
深紫外LED中Mgの深さ方向濃度分析 2023/03/23 深紫外LED中Mgの深さ方向濃度分析(C0692) [SIMS]二次イオン質量分析法
パワーデバイス
光デバイス
照明
ディスプレイ
微量濃度評価
製品調査
不純物評価・分布評価
低温PL・SIMS分析によるSi基板に含まれる格子間型炭素の評価 2020/05/06 低温PL・SIMS分析によるSi基板に含まれる格子間型炭素の評価(C0481) [SIMS]二次イオン質量分析法
[PL]フォトルミネッセンス法
LSI・メモリ
パワーデバイス
電子部品
太陽電池
微量濃度評価
構造評価
故障解析・不良解析
SSDP-SIMSによるゲート電極から基板へのBの突き抜け量評価 2020/05/06 SSDP-SIMSによるゲート電極から基板へのBの突き抜け量評価(C0028) [SIMS]二次イオン質量分析法
[SSDP用加工]基板側からの測定用加工
LSI・メモリ
組成評価・同定
微量濃度評価
組成分布評価
半導体基板中軽元素の高感度分析 2020/05/06 半導体基板中軽元素の高感度分析(C0117) [SIMS]二次イオン質量分析法
LSI・メモリ
微量濃度評価
組成分布評価
SIMS・SCM・TEMによるSiCパワーMOSFETの活性層評価 2020/05/06 SIMS・SCM・TEMによるSiCパワーMOSFETの活性層評価(C0291) [SIMS]二次イオン質量分析法
[(S)TEM](走査)透過電子顕微鏡法
[SCM]走査型静電容量顕微鏡法・[SNDM]走査型非線形誘電率顕微鏡法
パワーデバイス
微量濃度評価
形状評価
製品調査
SMMおよびSNDMによるSiC Trench MOSFETの拡散層評価 2020/04/30 SMMおよびSNDMによるSiC Trench MOSFETの拡散層評価(C0556) [SIMS]二次イオン質量分析法
[SCM]走査型静電容量顕微鏡法・[SNDM]走査型非線形誘電率顕微鏡法
[SMM]走査型マイクロ波顕微鏡法
パワーデバイス
形状評価
構造評価
劣化調査・信頼性評価
製品調査
SRAによるIGBTチップのキャリア濃度分布評価 2020/04/30 SRAによるIGBTチップのキャリア濃度分布評価(C0443) [SIMS]二次イオン質量分析法
[SRA]広がり抵抗測定法
パワーデバイス
電子部品
微量濃度評価
製品調査
界面および深さ方向分解能について 2018/07/05 界面および深さ方向分解能について(B0243) [SIMS]二次イオン質量分析法
LSI・メモリ
パワーデバイス
太陽電池
ディスプレイ
酸化物半導体
微量濃度評価
Dynamic-SIMSによる歯科インプラントの評価 2018/05/31 Dynamic-SIMSによる歯科インプラントの評価(C0519) [SIMS]二次イオン質量分析法
化粧品
その他
微量濃度評価
組成分布評価
製品調査
SIMSによる石英・ガラス中の「水」の評価 2017/02/16 SIMSによる石英・ガラス中の「水」の評価(C0460) [SIMS]二次イオン質量分析法
その他
電子部品
ディスプレイ
微量濃度評価
劣化調査・信頼性評価
SIMSによるSiC中不純物の超高感度測定 2016/04/14 SIMSによるSiC中不純物の超高感度測定(C0421) [SIMS]二次イオン質量分析法
[SSDP用加工]基板側からの測定用加工
パワーデバイス
微量濃度評価
SiGe中不純物の高精度定量評価 2016/04/07 SiGe中不純物の高精度定量評価(B0226) [SIMS]二次イオン質量分析法
LSI・メモリ
組成評価・同定
微量濃度評価
SIMSによる酸化ガリウムGa2O3膜の不純物濃度評価 2016/04/07 SIMSによる酸化ガリウムGa2O3膜の不純物濃度評価(C0416) [SIMS]二次イオン質量分析法
パワーデバイス
微量濃度評価
SIMSによるSi中不純物の超高感度測定 2015/03/19 SIMSによるSi中不純物の超高感度測定(C0354) [SIMS]二次イオン質量分析法
LSI・メモリ
パワーデバイス
太陽電池
微量濃度評価
RAE検出器を用いた大口径イメージングSIMS 2014/08/07 RAE検出器を用いた大口径イメージングSIMS(B0194) [SIMS]二次イオン質量分析法
LSI・メモリ
パワーデバイス
微量濃度評価
水素注入サンプルのSRA/SIMS評価事例 2014/03/27 水素注入サンプルのSRA/SIMS評価事例(C0322) [SIMS]二次イオン質量分析法
[SRA]広がり抵抗測定法
パワーデバイス
微量濃度評価
IGZO膜へのTi拡散評価 2013/12/26 IGZO膜へのTi拡散評価(C0329) [SIMS]二次イオン質量分析法
[(S)TEM](走査)透過電子顕微鏡法
[SSDP用加工]基板側からの測定用加工
酸化物半導体
微量濃度評価
IGZO膜中H濃度評価 2013/12/26 IGZO膜中H濃度評価(C0328) [SIMS]二次イオン質量分析法
[(S)TEM](走査)透過電子顕微鏡法
酸化物半導体
微量濃度評価
SIMSによるSiC中ドーパント元素の深さ方向分析2 2013/05/02 SIMSによるSiC中ドーパント元素の深さ方向分析2(C0298) [SIMS]二次イオン質量分析法
パワーデバイス
微量濃度評価
製品調査
SIMSによる化合物半導体の組成分析 2013/02/28 SIMSによる化合物半導体の組成分析(C0288) [SIMS]二次イオン質量分析法
光デバイス
照明
組成評価・同定
はんだ合金中の添加物面内分布評価 2013/02/14 はんだ合金中の添加物面内分布評価(C0287) [SIMS]二次イオン質量分析法
[IP法]Arイオン研磨加工
LSI・メモリ
電子部品
微量濃度評価
組成分布評価
SIMSによるGaN系LED構造の組成分析 2013/02/07 SIMSによるGaN系LED構造の組成分析(C0289) [SIMS]二次イオン質量分析法
パワーデバイス
光デバイス
照明
組成評価・同定
GaN系LED構造中MgのSSDP-SIMS分析 2013/02/07 GaN系LED構造中MgのSSDP-SIMS分析(C0293) [SIMS]二次イオン質量分析法
[SSDP用加工]基板側からの測定用加工
その他
パワーデバイス
光デバイス
照明
微量濃度評価
製品調査
SiC基板におけるSSDP-SIMS分析 2013/01/24 SiC基板におけるSSDP-SIMS分析(C0284) [SIMS]二次イオン質量分析法
[SSDP用加工]基板側からの測定用加工
その他
パワーデバイス
微量濃度評価
化合物積層構造試料のSIMS分析 2012/12/27 化合物積層構造試料のSIMS分析(C0269) [SIMS]二次イオン質量分析法
その他
パワーデバイス
光デバイス
照明
ディスプレイ
微量濃度評価
SIMSによるNPT-IGBT中ドーパント調査 2012/12/13 SIMSによるNPT-IGBT中ドーパント調査(C0256) [SIMS]二次イオン質量分析法
その他
パワーデバイス
微量濃度評価
製品調査
SiC基板の品質評価 2012/12/13 SiC基板の品質評価(C0280) [SIMS]二次イオン質量分析法
[XRD]X線回折法
[AFM]原子間力顕微鏡法
[PL]フォトルミネッセンス法
パワーデバイス
照明
微量濃度評価
形状評価
構造評価
故障解析・不良解析

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