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分析事例

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分析事例一覧

イメージ 掲載日 タイトル 測定法・加工法 製品分野 分析目的
XRFによるウエハ上Au薄膜の面内膜厚評価 2017/08/24 XRFによるウエハ上Au薄膜の面内膜厚評価(C0480) [XRF]蛍光X線分析法
パワーデバイス
照明
製造装置・部品
組成評価・同定
組成分布評価
XRFによるウエハ上Au薄膜の付着量評価 2017/08/24 XRFによるウエハ上Au薄膜の付着量評価(C0479) [XRF]蛍光X線分析法
パワーデバイス
照明
製造装置・部品
組成評価・同定
組成分布評価
酸化アルミニウム薄膜の局所構造解析 2017/08/10 酸化アルミニウム薄膜の局所構造解析(C0478) [XAFS]X線吸収微細構造
LSI・メモリ
製造装置・部品
化学結合状態評価
構造評価
SiN膜中の金属汚染評価 2017/04/06 SiN膜中の金属汚染評価(C0465) [ICP-MS]誘導結合プラズマ質量分析法
製造装置・部品
微量濃度評価
Siウエハ表面の金属汚染評価 2017/04/06 Siウエハ表面の金属汚染評価(B0233) [ICP-MS]誘導結合プラズマ質量分析法
製造装置・部品
環境
微量濃度評価
代表的な材料・目的別のTDS解析例 2017/03/30 代表的な材料・目的別のTDS解析例(B0232) [TDS]昇温脱離ガス分析法
LSI・メモリ
パワーデバイス
電子部品
ディスプレイ
製造装置・部品
酸化物半導体
微量濃度評価
その他
金属(Sn)の昇温脱離ガス分析 2017/02/02 金属(Sn)の昇温脱離ガス分析(C0458) [TDS]昇温脱離ガス分析法
製造装置・部品
組成評価・同定
その他
ウエハアナライザーを用いた有機汚染評価 2016/12/15 ウエハアナライザーを用いた有機汚染評価(B0230) [GC/MS]ガスクロマトグラフィー質量分析法
製造装置・部品
酸化物半導体
組成評価・同定
微量濃度評価
故障解析・不良解析
AESによるCu表面変色部の評価 2016/12/01 AESによるCu表面変色部の評価(C0451) [AES]オージェ電子分光法
[SEM]走査電子顕微鏡法
[SEM-EDX]エネルギー分散型X線分光法(SEM)
LSI・メモリ
電子部品
製造装置・部品
組成評価・同定
組成分布評価
EGA-MS法による発生ガス分析 2016/12/01 EGA-MS法による発生ガス分析(B0229) [GC/MS]ガスクロマトグラフィー質量分析法
電子部品
製造装置・部品
日用品
熱物性評価
劣化調査・信頼性評価
製品調査
TOF-SIMSによるノズル表面・内壁の分析 2016/11/02 TOF-SIMSによるノズル表面・内壁の分析(C0446) [TOF-SIMS]飛行時間型二次イオン質量分析法
製造装置・部品
日用品
組成分布評価
樹脂のアウトガス(脱ガス)分析 2016/10/20 樹脂のアウトガス(脱ガス)分析(C0444) [GC/MS]ガスクロマトグラフィー質量分析法
製造装置・部品
組成評価・同定
製品調査
ハートカットEGA法による発生ガス分析 2016/10/13 ハートカットEGA法による発生ガス分析(B0228) [GC/MS]ガスクロマトグラフィー質量分析法
電子部品
製造装置・部品
日用品
熱物性評価
劣化調査・信頼性評価
製品調査
室内雰囲気中の腐食成分分析 2016/08/18 室内雰囲気中の腐食成分分析(C0436) [IC]イオンクロマトグラフ法
LSI・メモリ
電子部品
製造装置・部品
環境
微量濃度評価
その他
樹脂中に存在している異物の評価 2016/05/19 樹脂中に存在している異物の評価(C0426) [TOF-SIMS]飛行時間型二次イオン質量分析法
製造装置・部品
組成評価・同定
組成分布評価
表面酸化膜のある異物の状態評価 2016/04/14 表面酸化膜のある異物の状態評価(C0420) [TOF-SIMS]飛行時間型二次イオン質量分析法
LSI・メモリ
光デバイス
電子部品
製造装置・部品
組成評価・同定
化学結合状態評価
組成分布評価
試料濃縮針による揮発性成分の濃縮分析 2016/03/31 試料濃縮針による揮発性成分の濃縮分析(B0224) [GC/MS]ガスクロマトグラフィー質量分析法
製造装置・部品
バイオテクノロジ
医薬品
化粧品
日用品
食品
組成評価・同定
ウエハ最表面の微量元素分析における前処理法 2016/03/31 ウエハ最表面の微量元素分析における前処理法(B0225) [ICP-MS]誘導結合プラズマ質量分析法
製造装置・部品
環境
微量濃度評価
粉体異物の定性分析 2016/02/18 粉体異物の定性分析(C0408) [FT-IR]フーリエ変換赤外分光法
[XRD]X線回折法
[XRF]蛍光X線分析法
電子部品
製造装置・部品
組成評価・同定
化学結合状態評価
故障解析・不良解析
高分子材料の添加剤評価 2016/02/11 高分子材料の添加剤評価(C0406) [LC/MS]液体クロマトグラフィー質量分析法
製造装置・部品
日用品
組成評価・同定
製品調査
溶解再沈法による高分子材料の添加剤評価 2016/02/11 溶解再沈法による高分子材料の添加剤評価(C0407) [LC/MS]液体クロマトグラフィー質量分析法
[LC/MS/MS]液体クロマトグラフィー質量分析法
製造装置・部品
日用品
組成評価・同定
製品調査
熱分解GCMSによる空気中高温加熱時の発生ガス分析 2015/10/22 熱分解GCMSによる空気中高温加熱時の発生ガス分析(C0399) [GC/MS]ガスクロマトグラフィー質量分析法
製造装置・部品
劣化調査・信頼性評価
揮発性有機化合物(VOC)P&Tによる微量成分の検出 2015/10/01 揮発性有機化合物(VOC)P&Tによる微量成分の検出(B0217) [GC/MS]ガスクロマトグラフィー質量分析法
LSI・メモリ
電子部品
製造装置・部品
化粧品
日用品
食品
環境
微量濃度評価
劣化調査・信頼性評価
製品調査
安全性試験
揮発性有機化合物(VOC)前処理方法の選択 2015/10/01 揮発性有機化合物(VOC)前処理方法の選択(B0216) [GC/MS]ガスクロマトグラフィー質量分析法
LSI・メモリ
電子部品
製造装置・部品
化粧品
日用品
食品
環境
微量濃度評価
劣化調査・信頼性評価
製品調査
安全性試験
エッチングによる有機付着物除去 2015/05/28 エッチングによる有機付着物除去(C0383) [XPS]X線光電子分光法
LSI・メモリ
パワーデバイス
光デバイス
製造装置・部品
酸化物半導体
組成評価・同定
化学結合状態評価
XPSによるDLCの評価 2015/05/14 XPSによるDLCの評価(C0380) [XPS]X線光電子分光法
電子部品
製造装置・部品
日用品
組成評価・同定
化学結合状態評価
DLC膜のsp2/(sp2+sp3)比高精度定量化 2015/04/23 DLC膜のsp2/(sp2+sp3)比高精度定量化(C0379) [XAFS]X線吸収微細構造
電子部品
製造装置・部品
日用品
化学結合状態評価
構造評価
薄いカーボン膜の深さ方向分析 2015/04/09 薄いカーボン膜の深さ方向分析(C0374) [TOF-SIMS]飛行時間型二次イオン質量分析法
電子部品
製造装置・部品
組成評価・同定
組成分布評価
マイクロサンプリングツールを用いた異物分析 2015/03/26 マイクロサンプリングツールを用いた異物分析(C0363) [FT-IR]フーリエ変換赤外分光法
[Raman]ラマン分光法
その他
電子部品
照明
ディスプレイ
製造装置・部品
日用品
組成評価・同定
化学結合状態評価
故障解析・不良解析
IC法によるSi含有溶液中のTMAH分析事例 2014/10/30 IC法によるSi含有溶液中のTMAH分析事例(C0359) [IC]イオンクロマトグラフ法
LSI・メモリ
太陽電池
製造装置・部品
環境
微量濃度評価
劣化調査・信頼性評価
製品調査

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