[GDMS]グロー放電質量分析法

GDMS:Glow Discharge Mass Spectrometry

特徴

GDMSは固体試料の組成について、主成分から微量成分まで同時に分析し、試料内に存在する不純物の半定量分析を行う手法です。濃度換算には装置付随の相対感度係数(RSF)を使用します。分析値は主成分元素と目的元素のイオン強度と、RSFから算出した値であり、半定量値です。

  • 微量元素(ppbレベル)から主成分レベルまでのバルク分析が可能
  • μmオーダーの深さ方向分析、薄膜分析が可能
  • 導電性材料、及び補助電極を用いることで半導体材料、絶縁物材料も分析が可能
  • 質量分解能が高く、妨害イオンの除去が可能
  • 水素と希ガスを除く、Li以下のほとんどの元素について測定が可能
  • 同位体比測定が可能

適用例

  • 半導体材料中不純物の分析
  • 高純度金属の分析
  • 合金中不純物の分析
  • めっき膜中不純物の分析
  • 粉体中不純物の分析

原理

Ar雰囲気下で、試料をマイナス極としてグロー放電を行います。Arガスが試料に衝突することにより試料構成元素がスパッタされます。スパッタにより放出された元素は大部分が中性ですが、Arプラズマ中でイオン化されます。
イオン化された原子を二重収束型質量分析器で測定し、元素の定性及び濃度の算出を行います。

試料内容や分析目的により、試料の加工法を選択します。

  • ピンセル方式: 試料の加工が容易な場合。バルク分析に向いています。
  • フラットセル方式: 試料の表面が平坦な場合。膜の分析や深さ方向分析に向いています。
原理

データ例

無酸素銅の評価

無酸素銅の評価

分析値はCu=100%とした時のRSF換算濃度です。
括弧値の元素は今回の測定では相対感度係数が不明なためイオン強度比で表示。

データ形式

  • PDFファイル

仕様

搬入可能形状とサイズ 板状、ピン状、粉体(必要に応じて、試料を加工させていただきます。)
検出下限 数ppb~数ppm (元素・測定条件により変動します。)
仕様

必要情報

  1. 分析目的
  2. 試料数・形状・組成・切断可否・予備試料の有無
  3. 層構造・膜厚
  4. 試料到着日
  5. ご希望納期

注意点

  • 大気成分元素(C,N,O)は装置内のバックグラウンドや使用するArガス内にも含まれることから、試料内に存在する大気成分との切り分けができないため評価できません。
  • 試料の主成分元素の濃度の合計を100%と仮定して不純物濃度の定量値算出を行うため、主成分元素の分析値にはMatrixと表記され数値は表記されません。
  • 本手法は、再委託によるサービスです。

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てむぞう&ますみん

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