[AES]オージェ電子分光法
AESは、電子線照射により放出されるオージェ電子の運動エネルギー分布を測定し、試料表面(数nm程度の深さ)に存在する元素の種類・存在量に関する知見を得る手法です。
[XPS]X線光電子分光法
XPSは、X線照射により放出される光電子の運動エネルギー分布を測定し、試料表面(数nm程度の深さ)に存在する元素の種類・存在量・化学結合状態に関する知見を得る手法です。
[HAXPES]硬X線光電子分光法
HAXPESは、XPS(X線光電子分光)の励起光に硬X線を用いた分析手法です。
高エネルギーなX線励起により通常のXPSよりも数~約10倍深い、50nm程度までのバルク状態評価、
ダメージレスな界面の結合状態評価を行うことができます。
[UPS]紫外光電子分光法
UPSは、紫外光照射により放出される電子の運動エネルギー分布を測定し、試料極表面(数nm程度以下)の価電子状態に関する知見を得る手法です。その一方で、高いエネルギー分解能を利用して各種金属材料の仕事関数評価にも用いられています。
[XAFS]X線吸収微細構造
XAFSは、物質にX線を照射することで得られる吸収スペクトルを解析する手法です。
[SXES]軟X線発光分光法
SXESは、物質から発光される軟X線を用いて化学結合状態を評価する手法です。