発生ガス濃縮装置を用いたアウトガス分析(B0241)

GC/MS:ガスクロマトグラフィー質量分析法

MST技術資料No.B0241
掲載日2018/03/01
測定法・加工法[GC/MS]ガスクロマトグラフィー質量分析法
製品分野電子部品
製造装置・部品
日用品
分析目的組成評価・同定

概要

発生ガス濃縮装置はチャンバー内に入れた試料から発生したガスを捕集管にトラップさせる装置です。
捕集管にトラップすることで微量の脱ガス成分を濃縮し、GC/MSで高感度に測定できます。試料の種類にあわせて複数のチャンバーから適切なものを選択することができ、最大400℃までの加熱に対応しています。

装置構成

本体

チャンバー

仕様・特徴

特徴

  • 比較的大きいサイズ(数cmオーダー)のサンプルに対応
  • ヘッドスペース法と比較して2~3桁程度感度良く測定が可能
  • ウエハ両面からの有機汚染評価が可能
  • フォトマスク(レチクル)の有機汚染評価が可能
  • ヘキサデカン、デカメチルシクロペンタシロキサンなどを用いた換算定量が可能

仕様

搬入可能サイズ 上記チャンバーに入るサイズ
加熱雰囲気 不活性ガス(N2
加熱条件 室温~最大400℃までの昇温加熱

注意点

  • 低沸点成分は捕集できない場合があります
  • 脱ガス量の多い試料は加熱温度を制限させていただく場合があります

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