有機EL素子の層構造評価(C0088)

N2雰囲気下での切削加工で酸化劣化を防止

MST技術資料No.C0088
掲載日2015/12/03
測定法・加工法[TOF-SIMS]飛行時間型二次イオン質量分析法
雰囲気制御下での処理
製品分野ディスプレイ
分析目的組成評価・同定

概要

有機EL素子は大気中で劣化しやすいため、N2雰囲気下での加工が必要となります。有機EL素子について、切削加工をN2雰囲気中で行い、30分大気に放置したものと、大気に暴露しないものについてAlq3の測定結果を示します。大気に放置すると、Alq3に酸素がついたピークが強い傾向が見られます。N2雰囲気中では、Alq3の親イオンが強い傾向が見られます。
大気に暴露しないことで、より真の状態に近い結果が得られます。

データ

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