クリーンルーム内有機化合物の評価方法(B0245)

GC/MS:ガスクロマトグラフィー質量分析法

MST技術資料No.B0245
掲載日2018/08/23
測定法・加工法[GC/MS]ガスクロマトグラフィー質量分析法
製品分野LSI・メモリ
パワーデバイス
太陽電池
ディスプレイ
酸化物半導体
分析目的微量濃度評価

概要

半導体や液晶などの製造が行われているクリーンルームでは、パーティクルだけでなく分子レベルの化学汚染(分子状汚染)を把握することが重要です。浮遊分子状汚染物質としては酸・塩基性ガスや凝集性有機物質、ドーパント、金属などが挙げられ、成分に応じて分析方法は異なります。
ここでは凝集性有機物質の詳細と、代表的な捕集方法である“吸着剤捕集”と“ウエハ暴露捕集”について紹介します。

捕集方法

浮遊分子状汚染物質の詳細

吸着剤捕集(TENAXや活性炭など)

吸引ポンプと吸着剤で有機成分を濃縮捕集する方法

揮発性成分と半揮発性成分を捕集できるTENAX等を使用します。

特徴
  • 空気中のVOCとSVOCを捕集できる。
  • 流量などを調整することで、回収にかける時間や採取ガス量を調整できる。
  • 着目成分のガス中濃度を算出できる。
  • 着目成分によって吸着剤を選択することで効率的に捕集できる。

ウエハ暴露捕集

室内に設置した清浄なウエハに、有機物を吸着させて捕集する方法

Siウエハは、ウエハアナライザーで分析します。その他の基板やフォトマスクも対応可能です。

特徴
  • 吸着剤捕集と異なり、シロキサンなどウエハに吸着しやすいものを回収できる。
  • 一日や一週間、一ヶ月など長期的で直接的なウエハへの影響を評価できる。
  • GC/MSによりウエハ全体の汚染度合いを定量的に評価できる(ヘキサデカン換算)。
  • 目視で確認できるような汚染の場合はTOF-SIMSで局所分析ができる。

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