XRFによるウエハ上Au薄膜の付着量評価(C0479)
薄膜成分の付着量を試料間で比較
概要
蛍光X線分析(XRF)では、元素分布の簡便な評価が可能です。
本事例では、蒸着装置を用いて任意量のAuを成膜した4inchのSiウエハA・Bを試料として、Auの分布および総付着量の比較を行いました。
面分析の結果より、Auの分布状態が確認できました(図1~4)。また、各画素から得られたXRFスペクトルのAu強度より付着量を比較し、ウエハBはAより多いことを確認しました(図5)。
データ
面分析結果
ウエハA(Au成膜量:小ない)
ウエハB(Au成膜量:多い)
総付着量の分析結果
積算XRF強度より、視野内におけるAu量はB>Aであることが評価できました。
※付着量の比較は、試料の構造・ウエハの面積が同じ場合に適用可能です。
ポイント
XRF分析では、最大で100mm×100mmの元素分布評価、視野内における元素の付着量に関する情報を得ることができます。
MST技術資料No. | C0479 |
掲載日 | 2017/08/24 |
測定法・加工法 | [XRF]蛍光X線分析法
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製品分野 | パワーデバイス 照明 製造装置・部品
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分析目的 | 組成評価・同定 組成分布評価
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