XRFによるウエハ上Au薄膜の面内膜厚評価(C0480)
多点マッピング測定により膜厚分布を可視化
概要
蛍光X線分析(XRF)では、元素分布や膜厚の簡便な評価が可能です。
本事例では、金属薄膜の評価事例として、4inchのSiウエハ上のAuの膜厚分布について多点マッピング測定をした事例をご紹介します。
多点マッピングを行うことで、各点のXRFスペクトルよりFP(Fundamental Parameter)法を用いてAu膜厚を算出し、測定座標より膜厚分布の評価をすることが可能です。
データ
薄くAu蒸着したウエハ
厚くAu蒸着したウエハ
ポイント
XRFの多点マッピング測定を行うことで最大で100mm×100mmの領域について膜厚分布の可視化を行うことが可能です。
MST技術資料No. | C0480 |
掲載日 | 2017/08/24 |
測定法・加工法 | [XRF]蛍光X線分析法
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製品分野 | パワーデバイス 照明 製造装置・部品
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分析目的 | 組成評価・同定 組成分布評価
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