セラミックス材料に含まれる微量金属の価数評価(C0532)

ppmオーダーの微量金属も評価可能です

MST技術資料No.C0532
掲載日2018/09/13
測定法・加工法[XAFS]X線吸収微細構造
製品分野LSI・メモリ
照明
酸化物半導体
分析目的化学結合状態評価

概要

各種材料の特性を設計・制御するにあたって、母材に微量含まれている元素の種類や量、またそれらの存在状態を明らかにするのは非常に重要です。このうち元素の種類や量に関してはSIMS(二次イオン質量分析法)やICP-MS(誘導結合プラズマ質量分析法)などによって評価可能ですが、価数・化学結合状態などといった存在状態の評価には放射光を用いたXAFS(X線吸収微細構造)測定が有効です。本資料では測定例としてセラミックス材料に微量含まれるCeの価数を評価した事例をご紹介します。

データ

Ce-L 端XANESスペクトル

※X-ray Absorption Near Edge Structure

参考文献: Y. Takahashi et al., Analytica Chemica Acta 468 (2002) 345.

ポイント

XAFSによってppmオーダーの微量金属について価数・結合状態の情報が得られます

適用事例

  • 蛍光体材料中のEu,Ceの価数評価
  • 半導体中に微量含まれる不純物の存在サイトの特定
  • リチウムイオン二次電池材料中、電解液に溶出した微量金属の状態評価

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