XAFSによるシリコン酸化膜評価(C0439)

シリコン周囲の局所構造解析、中間酸化物の定量、バルク・界面の評価

概要

シリコン酸化膜はMOSデバイスやリチウムイオン二次電池の負極材料として広く利用されていますが、中間酸化物の有無や界面での結合状態がデバイス特性に大きな影響を与えることが知られています。
放射光を用いたXAFS測定では試料表面から数十nmの深さの情報を検出するため、非破壊でバルク・界面における構造および結合状態を解析することが可能です。
本資料ではXAFSを用いてシリコン酸化膜の中間酸化物の有無を調査した事例を紹介します。

データ

XAFSによるシリコン酸化膜評価の特長

シリコン周囲の局所構造解析が可能
中間酸化物の有無の判定および定量が可能
検出深さが数十nmのため、非破壊でバルク・界面の評価が可能

参考文献：A. Hirata, et al., Nat. Commun. 7, 11591 (2016).

この分析事例のPDFファイルを開く XAFSによるシリコン酸化膜評価

MST技術資料No.	C0439
掲載日	2016/10/06
測定法・加工法	［XAFS］X線吸収微細構造
製品分野	パワーデバイス電子部品太陽電池二次電池ディスプレイ酸化物半導体
分析目的	化学結合状態評価構造評価

関連する分析事例

掲載日	タイトル	測定法・加工法	製品分野	分析目的
2018/09/13	セラミックス材料に含まれる微量金属の価数評価(C0532)	［XAFS］X線吸収微細構造	LSI・メモリ照明酸化物半導体	化学結合状態評価
2018/03/22	X線吸収・発光分光によるバンド構造評価(C0514)	［XAFS］X線吸収微細構造その他	LSI・メモリ照明酸化物半導体	その他
2018/02/22	GaNの部分状態密度測定(C0511)	［XAFS］X線吸収微細構造 [SXES]軟X線発光分光法その他	LSI・メモリ照明酸化物半導体	その他
2017/08/10	酸化アルミニウム薄膜の局所構造解析(C0478)	［XAFS］X線吸収微細構造	LSI・メモリ製造装置・部品	化学結合状態評価構造評価
2017/06/29	XAFSによるGaNのイオン注入ダメージ評価(C0472)	［XAFS］X線吸収微細構造	パワーデバイス照明	化学結合状態評価構造評価
2017/03/16	酸化・窒化薄膜のバンドギャップ評価(C0462)	［XPS］X線光電子分光法［XAFS］X線吸収微細構造	パワーデバイス太陽電池照明酸化物半導体	その他
2017/01/19	in-situ XAFSによるRuO₂触媒の化学状態評価(C0456)	［XAFS］X線吸収微細構造	燃料電池その他	化学結合状態評価
2017/01/19	燃料電池用PtRu触媒の雰囲気・温度制御下での金属価数評価（in-situ XAFS）(C0455)	［XAFS］X線吸収微細構造	燃料電池その他	化学結合状態評価
2016/11/10	HfZrOx膜の結晶構造同定・含有割合の算出(C0447)	［XAFS］X線吸収微細構造［XRD］X線回折法	LSI・メモリ	構造評価
2016/10/06	XAFSによるシリコン酸化膜評価(C0439)	［XAFS］X線吸収微細構造	パワーデバイス電子部品太陽電池二次電池ディスプレイ酸化物半導体	化学結合状態評価構造評価