パワーデバイスのドーパントおよびキャリア濃度分布の評価(C0286)
複合解析で活性化率に関する評価が可能
概要
SIMSによる不純物濃度分布とSRAによるキャリア濃度分布を比較することで、ドーパントの活性化状態がわかるだけでなく、整合しない領域には未知の不純物の存在、構造的な問題の内在が示唆されます。
Profile Viewerを用いれば、お手元でSIMSのデータとSRAのデータを重ね、解析することが可能です。
一例として、市販のダイオードチップについて、パッケージ開封後のダイオードチップ表面中央部と外周部(図1)および裏面について、SIMSとSRAを行った事例をご紹介します。
データ
図2の構造の市販のダイオードチップのSIMSとSRAの結果を図3-1~3に示します。
結果、ダイオードチップの表面は、N-層の上にBが注入されおり(図3-1,2)、ダイオードチップの裏面は、AsドープN+基板にPが注入されていました(図3-3)。
SIMSとSRAを行う事で、ドーパント及びキャリアの濃度分布、活性化率の違いについて評価できます。
MST技術資料No. | C0286 |
掲載日 | 2012/12/20 |
測定法・加工法 | [SRA]広がり抵抗測定法 その他
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製品分野 | パワーデバイス
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分析目的 | 微量濃度評価 組成分布評価 製品調査
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