SiN膜中の金属汚染評価(C0465)

ICP-MSによる高感度分析

MST技術資料No.C0465
掲載日2017/04/06
測定法・加工法[ICP-MS]誘導結合プラズマ質量分析法
製品分野製造装置・部品
分析目的微量濃度評価

概要

Siウエハ上のSiN膜(Si3N4)を溶解した溶液中には、着目している不純物金属元素以外に膜由来のSiマトリックスが含まれています。そのため、溶解した溶液そのものでは精度よく高感度分析ができません。
そこで、Siウエハ上のSiN膜を溶解後、別途処理を施すことでSiマトリックスの影響なくSiN膜中不純物金属元素の分析を可能としました。市販品のSiN膜付きSiウエハを用いてICP-MSによる高感度分析を実施した事例を挙げます。

データ

市販品φ150mmSiウエハ上のSiN膜100nmを全溶解し、ICP-MSでSiN膜中の不純物金属元素を測定しました。

  • Siウエハサイズはφ200mmまで対応可能です。
  • Siウエハ上のSiO2膜中の金属元素も高感度分析が可能です。

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