SNDMによるSiC Planer Power MOSの高感度評価(C0551)

SiCデバイスの拡散層構造を可視化できます(拡散層構造の高感度評価)

概要

SNDM (走査型非線形誘電率顕微鏡)では半導体のp/n極性を識別し、拡散層の形状を可視化すること ができます。本手法は、従来から用いられているSCM(走査型静電容量顕微鏡)の機能を包括しており、 SCMでは評価が難しいSiCを代表とする次世代のパワーデバイスにおいても、低濃度から高濃度まで十分に評価を行うことができます。高感度を特徴とし、あらゆる化合物半導体デバイスに適用可能です。一例として、SiC Planer Power MOSの断面を製作し、SNDM分析を行った事例をご紹介します。

データ

ポイント

  • ワイドギャップ半導体、化合物半導体のpn極性分布評価に適用
  • キャリア濃度の低いn- Drift領域でも十分なSN比でpn極性分布を可視化

MST技術資料No.C0551
掲載日2020/05/06
測定法・加工法[SCM]走査型静電容量顕微鏡法・[SNDM]走査型非線形誘電率顕微鏡法
製品分野パワーデバイス
分析目的形状評価
製品調査

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