二酸化ケイ素の構造解析(C0004)

非晶質（ガラス）二酸化ケイ素（SiO2）のラマン散乱分光法による構造解析

概要

二酸化ケイ素（SiO₂）は半導体における絶縁膜・FPDの基板材料・光学材料・医療機器から装身具に至るまで幅広く用いられていますが、非晶質であるガラスとして構造解析を行うことは非常に困難です。
ガラス中でSiO₂が環状に結合することに着目し、ラマン測定を行いました。（図1）単結晶石英ではガラス状態のスペクトルとは著しく異なり、長距離秩序によるフォノンバンドが観測されます。（図2, 図3）

データ

参考文献：C. J. Brinker, D. R. Tallant, E. P. Roth and C. S. Ashley, J. Non-Cryst. Solids, 82, 117 (1986)

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MST技術資料No.	C0004
掲載日	2010/01/01
測定法・加工法	［Raman］ラマン分光法
製品分野	LSI・メモリディスプレイ
分析目的	化学結合状態評価

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