二酸化ケイ素の構造解析(C0004)
非晶質(ガラス)二酸化ケイ素(SiO2)のラマン散乱分光法による構造解析
概要
二酸化ケイ素(SiO2)は半導体における絶縁膜・FPDの基板材料・光学材料・医療機器から装身具に至るまで幅広く用いられていますが、非晶質であるガラスとして構造解析を行うことは非常に困難です。
ガラス中でSiO2が環状に結合することに着目し、ラマン測定を行いました。(図1) 単結晶石英ではガラス状態のスペクトルとは著しく異なり、長距離秩序によるフォノンバンドが観測されます。(図2, 図3)
データ
参考文献:C.J.Brinker,D.R.Tallant,E.P.Roth and C.S.Ashly ,J.Non-Cryst.Solids,82,117(1986)
MST技術資料No. | C0004 |
掲載日 | 2010/01/01 |
測定法・加工法 | [Raman]ラマン分光法
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製品分野 | LSI・メモリ ディスプレイ
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分析目的 | 化学結合状態評価
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