二酸化ケイ素の構造解析(C0004)

非晶質(ガラス)二酸化ケイ素(SiO2)のラマン散乱分光法による構造解析

概要

二酸化ケイ素(SiO2)は半導体における絶縁膜・FPDの基板材料・光学材料・医療機器から装身具に至るまで幅広く用いられていますが、非晶質であるガラスとして構造解析を行うことは非常に困難です。
ガラス中でSiO2が環状に結合することに着目し、ラマン測定を行いました。(図1) 単結晶石英ではガラス状態のスペクトルとは著しく異なり、長距離秩序によるフォノンバンドが観測されます。(図2, 図3)

データ

参考文献:C.J.Brinker,D.R.Tallant,E.P.Roth and C.S.Ashly ,J.Non-Cryst.Solids,82,117(1986)

MST技術資料No.C0004
掲載日2010/01/01
測定法・加工法[Raman]ラマン分光法
製品分野LSI・メモリ
ディスプレイ
分析目的化学結合状態評価

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